Tooted

Uurisime tasakaalustamata magnetroni (UBM) pihustusmeetodil moodustatud lämmastikuga legeeritud nanosüsiniku kileelektroodi, mille lämmastiku kontsentratsioon oli alla 10, 9 at%.Sp (3) sisaldus lämmastikuga legeeritud UBM pihustavas nanosüsiniku kiles (N-UBM kile) suureneb lämmastiku kontsentratsiooni suurenedes veidi.Lämmastikku sisaldav grafiiditaoline side väheneb ja püridiinitaoline side suureneb lämmastiku kontsentratsiooni suurenedes.N-UBM-kile on väga sile pind, mille keskmine karedus on 0,1–0,3 nm, mis on peaaegu sõltumatu lämmastiku kontsentratsioonist.N-UBM-kileelektroodil on sp (3) sisalduse vähese suurenemise tõttu laiem potentsiaalikaken (4,1 V) kui puhtal UBM-kileelektroodil (3,9 V).Elektrokatalüütiline aktiivsus suurenes lämmastiku kontsentratsiooni suurenemisega, mis viitab sellele, et elektroaktiivsus on maksimaalne, kui lämmastiku kontsentratsioon on umbes 10, 9 at%, mida kinnitab Fe (CN) 6 (4-) piikide eraldumine.Vesinikperoksiidi (H2O2) redutseerimispotentsiaalid N-UBM kileelektroodil nihkusid umbes 0,1 V ja H2O2 tippvool suurenes umbes 4 korda.